Prozessgasventile für die Halbleiter- und LCD-Industrie

Serie AGD0 - Platzsparend und flexibel einsetzbar

Pressemeldung der Firma BIBUS GmbH

Die kompakten und mit verschiedenen Optionen erhältlichen Prozessgasventile der Serie AGD0 sind interessante und attraktive Produkte für die Halbleiterindustrie und für LCD-Anwendungen.

Es handelt sich dabei nur um eine Baureihe aus der umfangreichen Auswahl von Prozessgasventilen von CKD.

CKD bietet für die unterschiedlichen Anwendungen in der Halbleiter- und LCD-Industrie eine Vielzahl von Prozessgasventilen, welche auch auf komplexen Gaszuliefersystemen verbaut werden.

Die luftbetätigten Ventile der Baureihe AGD0 werden für Edel- und Prozessgase eingesetzt. Der Betriebsdruck liegt bei 4 bis 6 bar.

Die Ventile sind als NC und NO mit Arbeitsdrücken von 1.3 x 10-6 bis 10 bar und Druckanschlüssen M5 und 1/8“ erhältlich.

Die Gasverbindungen sind 1/4“, 3/8“ und 1/2“ JXR Außen- und Innengewinde und können mit VCR gepaart werden.

Die Ventile sind für Temperaturen von -10°C bis max. 80°C einsetzbar.

Die Membrane bestehen aus einer hochresistenten und langlebigen Nickel-Cobalt-Legierung und die medium-berührenden Oberflächen des Ventils sind elektropoliert, um den hohen Anforderungen in der Halbleiterindustrie in Bezug auf Leckage zu genügen.

Die Ventilsitz-Leckage liegt bei weniger als 1.3 x 10-9 und für die externe Leckage ergibt sich ein maximaler Wert von 2.8 x 10-12 für Helium.

Die Ventile sind je nach Kundenwunsch als Blockventil, Winkelventil oder Mengenteilerventil erhältlich.

Die verfügbaren Optionen reichen von Durchflusskontrolle, visueller Anzeige, Temperaturanzeige bis zu Näherungsschalter oder offen/zu-Sensoren.

Die von CKD garantierte Lebensdauer beträgt mindestens 4 Millionen Zyklen bei optimalem Einsatz der Ventile.

Diese luftbetätigten Prozessgasventile werden unter anderem auch im Zusammenhang mit den Vorsteuerventilen MN3E und MN4E eingesetzt.

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Ansprechpartner: Hansjörg Kistler, Tel. 0731 20769-0, E-Mail: ki@bibus.de



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